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日本電子JEOL場發(fā)射透射電鏡F200是日本電子新一代多用途場發(fā)射透射電子顯微鏡，可以很好滿足當(dāng)今用戶的多樣化需求。F2在保證高性能和滿足多樣化需求的同時(shí)采用了以用戶為取向的一體化操作設(shè)計(jì)。

日本電子JEOL肖特基場發(fā)射掃描電鏡IT800 半浸沒式物鏡是指在通常物鏡的下部還有一個(gè)由泄露磁場形成的強(qiáng)磁場透鏡。JEOL的半浸沒式物鏡能夠提高電子束的聚焦能力，實(shí)現(xiàn)超高分辨率。而且還能夠更高效地收集那些從樣品激發(fā)出來的低能量二次電子，提高UID檢測器的檢測效率。

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列無論是切割、成像或進(jìn)行 3D 分析，Crossbeam 系列都能極大地提升您的應(yīng)用體驗(yàn)。使用 Gemini 電子光學(xué)系統(tǒng)，您可以從掃描電子顯微鏡（SEM）圖像中獲取真實(shí)的樣品信息。Ion-sculptor FIB 鏡筒引入了全新的 FIB 加工方法，能夠減少樣品損傷，提升樣品質(zhì)量，從而加快實(shí)驗(yàn)進(jìn)程。

蔡司ZEISS場發(fā)射掃描電鏡Sigma系列產(chǎn)品將場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與良好的用戶體驗(yàn)緊密地結(jié)合在一起。利用 Sigma 直觀的 4 步工作流程，可輕松實(shí)現(xiàn)構(gòu)建成像和分析程序，提高工作效率。您可以在更短的時(shí)間內(nèi)采集到更多數(shù)據(jù)。Sigma 可以搭載多種探測器，以滿足不同應(yīng)用需求：顆粒物、表面結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層及多層膜等樣品成像。

蔡司ZEISS 場發(fā)射掃描電鏡Gemini系列 這一名字代表著可以輕松實(shí)現(xiàn)亞納米級別高分辨率的成像技術(shù)，足以滿足您在面對高要求的材料和生命科學(xué)項(xiàng)目時(shí)的成像要求。將高檢測效率與出色的分析性能相結(jié)合，使用非浸沒式物鏡技術(shù)即可實(shí)現(xiàn) 1kV 以下的亞納米分辨率。三款special設(shè)計(jì)的 Gemini 電子光學(xué)鏡筒以及一個(gè)大型靈活的新型樣品室可以滿足您所有的成像和分析需求。

高速攝像機(jī)FASTCAM MINI-UX產(chǎn)品簡介1280×1024像素4,000fps；拍攝速度200,000fps；1.5KG的輕化小型設(shè)計(jì)產(chǎn)品用途Photron高速相機(jī)的新成員“FASTCAM Mini”系列。拍攝速度、感光性能、重量、尺寸等指標(biāo)均衡考慮的設(shè)計(jì)理念。作為“剛剛好”的高速相機(jī)廣泛適用于研究開發(fā)、生產(chǎn)技術(shù)、機(jī)械工程等領(lǐng)域。